電子情報技術部会　マイクロナノシステムと材料・加工分科会　講演会　「リソグラフィ、超微細加工」の詳細

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イベント名 電子情報技術部会　マイクロナノシステムと材料・加工分科会　講演会　「リソグラフィ、超微細加工」
日時 2017-06-08 14時00分～18時10分
場所 当協会会議室
概要 講演（１）１４：００～１５：３０　　〇
講師：大山　俊幸　氏
　　　　　横浜国立大学 大学院工学研究院　教授
演題：「反応現像に基づくエンプラの汎用的画像形成法の開発」
要旨：感光性ポリマーを用いた微細パターン形成において、形成したパターンをそのまま残して使用する場合、ポリマーの熱的・機械特性等が重要になるため、高性能ポリマーであるエンプラの使用が望ましい。しかし、現行の感光性ポリイミドなどは前駆体ポリマーの使用や重合性基の導入が必要であり、汎用性やコスト面での問題を有している。本講演では、市販エンプラなどの多様なエンプラに簡便に感光性を付与し微細パターン形成を可能にする手法である「反応現像画像形成」について、その原理や応用例などを紹介する。

講演（２）１５：４０～１７：１０　　〇
講師：平井　義彦　氏
　　　　　大阪府立大学　大学院　工学研究科　教授
演題：「ナノインプリント技術の進展と展開」
要旨：サブ20nm成型に向けて、熱ならびに光ナノインプリント技術の課題について整理する。とりわけ、ナノ領域での樹脂流動、変形、光反応と、離型について、シミュレーションと実験に基づき、課題とその解決策を探る。また、リバーサルナノインプリント、ハイブリッドナノインプリント法などによる３次元マイクロ・ナノ構造成型についても紹介し、その応用を探る。

懇親会：１７：１０～１８：１０

申込締切：2017年6月7日(木)

＊受付は１３：３０からとなります。
参加費・懇親会費について 参加費：　会員：無料（会員リスト：http://www.jaci.or.jp/about/page_06.html）
　　　　　　非会員：10,000円　（当日受付でお支払いください。）
懇親会費：無料
募集人数 100 人